ASML legt fundament voor Extreme Ultra Violet Lithografie

Door: ASML  01-09-2006
Trefwoorden: Techniek, Elektrotechniek

ASML legt fundament voor Extreme Ultra Violet Lithografie met teamspirit en doorzettingsvermogen

Veldhoven, 30 augustus 2006 - ASML heeft eerder deze week de eerste testversies van een nieuwe generatie halfgeleider-productiesystemen op basis van Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) verscheept. Deze systemen zijn in staat nog fijnere lijnen (32 nanometer en kleiner) te printen en dus veel goedkopere, snellere en kleinere chips te vervaardigen. Daar is veel teamwork, inzet en doorzettingsvermogen aan te pas gekomen en zijn weer talloze barrières geslecht.

Werken in vacuum
De ontwikkeling van de EUV-demo-tool was een enorm project dat zeven jaar in beslag nam. Aanleiding voor het ontwikkelen van een systeem op basis van EUV vormde de technologie achter röntgenlithografie uit de jaren ’80. Daarbij werd gewerkt met licht van extreem lage golflengte. Door de sprong in golflengte van het licht (ASML werkt tot op heden met lichtbronnen met een golflengte van 193nm) naar 13,5nm te benutten, zou het mogelijk worden om de printlijnen op de chip veel kleiner te maken en dichter bij elkaar te zetten. Daarvoor moesten echter nog wel wat complex technologische barrières worden geslecht, zoals het werken in vacuüm (omdat de golflengte van het licht zo klein is, dat het geabsorbeerd wordt door lucht), een optisch systeem ontwerpen dat geheel uit spiegels bestaat en het creëren van een perfecte lichtbron.

Team van 250
Midden jaren negentig begon ASML met fundamenteel onderzoek op een aantal deelaspecten van EUVL (lichtbronnen, optiek, systeemontwerp). In oktober 1999 startte de ontwikkeling van de eerste EUV-tools onder de naam Alpha Demo Tool. Op het hoogtepunt waren zo’n 250 researchers, engineers en projectmanagers bij ASML en ontwikkelpartners Carl Zeiss SMT, Philips Applied Technologies, TNO Science & Industries, Philips Research, Philips Extreme Technologies GmbH, Media Lario en een groot andere aantal toeleveranciers, betrokken bij het omvangrijke project.

Doorbraak
Na zeven jaar van intensieve ontwikkeling was er de doorbraak. In januari 2006 leverde het Alpha Demo Tool de eerste ongekend hoogwaardige afbeeldingen. “Een absolute kick voor het team”, vertelt Hans Meiling, Product Development Manager EUV alpha demo tools. Meiling: “Na zeven jaar van hard werk, met vele ups en downs, hebben we het dus geflikt! Een dergelijk complex technologische uitdaging tot een goed einde brengen, lukt alleen met een team waarin absolute commitment bestaat. Die is bij ons aanwezig. Zo hebben we bijvoorbeeld een teamlid die het in tijden van extreme drukte zat was om heen en weer naar huis te rijden (twee uur ’s nachts klaar en ’s ochtends om acht uur weer op). Hij heeft een tijdje gekampeerd in zijn camper op het parkeerterrein. Dat geeft wel aan hoe toegewijd de EUV-teamleden zijn, maar ook hoe fascinerend het is om pure wetenschap aan directe klantenbehoeftes te verbinden.”

Klanten
De laatste maanden zette ASML de puntjes op de i en maakte de twee proefsystemen klaar voor verscheping naar twee grote research centra: een in Leuven België en de ander in Albany, NY. De klanten van ASML zullen daar de systemen gaan testen. EUV-Lithografiesystemen voor massaproductie kunnen al in 2009 worden geïntroduceerd afhankelijk van de vraag naar deze systemen. De verwachting is dat de halfgeleiderindustrie, inclusief de makers van lithografiesystemen zoals ASML en zijn hightech toeleveranciers nog ongeveer een miljard euro zullen uitgeven om EUVL marktgereed te maken.

Op zoek naar commitment
ASML zoekt nieuwe medewerkers die dit soort commitment hebben. Op thematische Open Dagen kunnen potentiële medewerkers een kijkje nemen in de meest hightech keuken van Nederland en in contact komen met hun mogelijk toekomstige collega’s. Op 23 september is er een Open Dag gericht op Software professionals en op 30 september zijn kandidaten met een achtergrond in Elektrotechniek en/of Natuurkunde van harte welkom op de ASML-campus in Veldhoven.

Trefwoorden: Elektrotechniek, Techniek